專為40℃以上高溫環(huán)境中測量-50℃以下露點而特別設計,此模式的特點是在消露的過程中采用軟件技術控制鏡面霜層,正因為如此,更低的露點反而可獲得更快的測量(測量時間≤5min),有效解決高溫環(huán)境中低露點無法測量的問題。
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