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專為40℃以上高溫環(huán)境中測(cè)量-50℃以下露點(diǎn)而特別設(shè)計(jì)，此模式的特點(diǎn)是在消露的過(guò)程中采用軟件技術(shù)控制鏡面霜層，正因?yàn)槿绱?，更低的露點(diǎn)反而可獲得更快的測(cè)量（測(cè)量時(shí)間≤5min），有效解決高溫環(huán)境中低露點(diǎn)無(wú)法測(cè)量的問(wèn)題。
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